產(chǎn)品中心
Product Center
熱門搜索：
Element美國(guó)EDAX能譜儀
EP6美國(guó) Cascade Microtech EP6探針臺(tái)
TEM氮化硅薄膜窗口
NTEGRAPrima俄羅斯產(chǎn)全功能掃描探針原子力顯微鏡
Zeta-20三維光學(xué)輪廓儀
主動(dòng)隔振臺(tái)ARISTT
石英/硅/聚合物模板高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）
P170全自動(dòng)晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀
iNano高精度臺(tái)式納米壓痕儀
PLD/Laser-MBE脈沖激光沉積/分子束外延聯(lián)用系統(tǒng)
Lumina光學(xué)表面缺陷分析儀
P7晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀
納米團(tuán)簇束流沉積系統(tǒng)
Profilm 3D經(jīng)濟(jì)三維光學(xué)輪廓儀 可測(cè)樣
Solver P47俄羅斯產(chǎn)高性價(jià)比掃描探針顯微鏡原子力
納米壓印膠
當(dāng)前位置：首頁(yè)
產(chǎn)品中心輪廓儀光學(xué)輪廓儀三維測(cè)量輪廓儀
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
從產(chǎn)品研發(fā)到質(zhì)量控制，該系統(tǒng)可以用于從超光滑鏡面到粗糙面的各種樣品進(jìn)行表面微觀測(cè)量分析和粗糙度質(zhì)量評(píng)價(jià)。白光干涉原理。
product
產(chǎn)品分類| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)品種類 | 非接觸式輪廓儀/粗糙度儀 | 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子/電池,航空航天,汽車及零部件 |
三維測(cè)量輪廓儀
三維測(cè)量輪廓儀
三維表面微觀測(cè)量及粗糙度評(píng)定廣泛應(yīng)用于精密加工、半導(dǎo)體加工、材料分析等領(lǐng)域
√ 亞納米級(jí)縱向分辨率，適合光滑表面測(cè)量分析
√ 簡(jiǎn)單、精確、快速、可重復(fù)
√ 豐富的測(cè)量模式支持不同2D/3D測(cè)量需求
√ 表面三維粗糙度非接觸測(cè)量
√ 表面微觀三維結(jié)構(gòu)測(cè)量
√ 膜厚測(cè)量與分析
√ 顯微反射光譜測(cè)量(選)
精密光學(xué)元件，微納加工器件，金屬機(jī)加工零件，晶圓等
√ 白光干涉顯微測(cè)量原理：采用白光光源，將非相干光干涉和高分辨率顯微成像技術(shù)相結(jié)形成微觀三維輪廓，采用不同測(cè)量倍率物鏡，縱向測(cè)量分辨率可達(dá)到亞納米量級(jí)
√ 顯微光譜測(cè)量：選配光譜模塊可以實(shí)現(xiàn)表面微區(qū)光譜測(cè)量和膜厚測(cè)量功能
實(shí)測(cè)案例
上一個(gè)：
返回列表
