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為了滿足現(xiàn)代材料研究的挑戰(zhàn)，Swift開發(fā)了一系列*可定制的原位拉伸試樣臺(tái)。這些拉伸試樣臺(tái)適合多種顯微觀測系統(tǒng)，比如掃描電鏡、透射電鏡、光學(xué)顯微鏡、共聚焦顯微鏡等。支持EBSD，樣品加熱和冷卻,可實(shí)現(xiàn)...

Alpha-Step D-300/500 探針式輪廓儀支持臺(tái)階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力的2D 測量。Alpha-Step臺(tái)階儀光學(xué)杠桿傳感器技術(shù)提供高分辨率測量，大垂直范圍和低觸力測量功能。 ...

非接觸式輪廓儀優(yōu)點(diǎn)就是測量裝置探測部分不與被測表面的直接接觸，保護(hù)了測量裝置，同時(shí)避免了與測量裝置直接接觸引入的測量誤差。Zeta-20三維光學(xué)輪廓儀集成了六種光學(xué)計(jì)量技術(shù)。 ZDot 測量模式同時(shí)采...

Profilm 3D是一款兼具垂直掃描干涉 (VSI)和高精確度相移干涉 (PSI) 技術(shù)的經(jīng)濟(jì)三維光學(xué)輪廓儀，其可以用于多種用途的高精度表面測量。我司有此機(jī)器可測樣。

iNano高精度臺(tái)式納米壓痕儀是一種緊湊，用戶友好的納米機(jī)械測量系統(tǒng)，設(shè)計(jì)用于硬涂層，薄膜和少量材料。該系統(tǒng)旨在進(jìn)行準(zhǔn)確，可重復(fù)的納米級機(jī)械測試，包括壓痕，硬度，劃痕和通用納米級測試。iNano具有很...

Lumina AT1光學(xué)表面缺陷分析儀可對玻璃、半導(dǎo)體及光電子材料進(jìn)行表面檢測。Lumina AT1既能夠檢測SiC、GaN、藍(lán)寶石和玻璃等透明材料，又能對Si、砷化鎵、磷化銦等不透明基板進(jìn)行檢測，其...

Filmetrics R50 是KLA電阻測試家族的最新產(chǎn)品。R50方阻測試儀是KLA超45年電阻測量技術(shù)地位之作。電阻測量和監(jiān)控對于任何使用導(dǎo)電薄膜的行業(yè)都至關(guān)重要，從半導(dǎo)體制造到可穿戴技術(shù)所需的柔...

高精度原子力顯微鏡 ParkNX10為您帶來納米級分辨率的數(shù)據(jù)，值得您信賴、使用和擁有。 在SmartScanAuto有的智能模式下，系統(tǒng)自動(dòng)執(zhí)行所有必要的成像操作，同時(shí)智能選擇好的圖像質(zhì)量和掃描...

Nano Indenter® G200原位納米力學(xué)測試系統(tǒng)是一種準(zhǔn)確，靈活，使用方便的納米級機(jī)械測試儀器。 G200 測量楊氏模量和硬度，包括從納米到毫米的六個(gè)數(shù)量級的形變測量。 可測量聚合...

SPRm200 表面等離子共振顯微鏡工作原理基于表面等離子共振（SPR）技術(shù)。是世界上先將表面等離子體共振技術(shù)和光學(xué)顯微鏡巧妙結(jié)合為一體的生物傳感檢測儀。可以同時(shí)得到細(xì)胞原位明場成像、SPR成像、及S...

與X射線用氮化硅窗口類似，透射電鏡(TEM)用氮化硅薄膜窗口也使用低應(yīng)力氮化硅薄膜基底。但整體尺度更小，適合TEM裝樣的要求。窗口有單窗口和多窗口陣列等不同規(guī)格。同時(shí)SHNTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口...

公司擁有齊全的納米系列壓印膠材料，熱壓型納米壓印膠、熱塑型、紫外光固化型、紫外光固化納米壓印和光刻兩用膠、舉離型傳遞層材料、刻蝕型傳遞層材料、各種與納米壓印技術(shù)相關(guān)的化學(xué)藥品，如模板防粘劑、基片增粘劑...

緊湊型臺(tái)式光刻系統(tǒng)重新定義無掩模光刻技術(shù)LITHO MASKLESS 是一款緊湊型臺(tái)式光刻系統(tǒng)利用基于 UV LED 的 DLP 引擎實(shí)現(xiàn)無掩模圖案化。設(shè)計(jì)簡潔，精準(zhǔn)它將微加工技術(shù)從潔凈室和任何研究或...

SUME BW510是用于研發(fā)或小批量生產(chǎn)的半自動(dòng)晶圓鍵合設(shè)備，具備良好的壓力與溫度均勻性較為特的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)保證鍵合的壓盤相對水平，優(yōu)良的真空系統(tǒng)以及腔體設(shè)計(jì)，方便簡潔的菜單編輯和設(shè)備狀態(tài)監(jiān)控以及安全保...

自由曲面三維面型檢測儀自由曲面光學(xué)元件應(yīng)用于智能車載顯示、AR 顯示、手機(jī)鏡頭、激光顯示、照明、 光刻等前沿領(lǐng)域，自由曲面三維面型檢測儀，能夠非接觸測量光學(xué)鏡面元件的三維面型數(shù)據(jù)，開展三維輪廓分析和三...

晶圓翹曲應(yīng)力測量儀具備三維翹曲（平整度）及薄膜應(yīng)力的檢測功能，適用于半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)、半導(dǎo)體制程工藝開發(fā)、玻璃及陶瓷晶圓生產(chǎn)

從產(chǎn)品研發(fā)到質(zhì)量控制，該系統(tǒng)可以用于從超光滑鏡面到粗糙面的各種樣品進(jìn)行表面微觀測量分析和粗糙度質(zhì)量評價(jià)。白光干涉原理。

Strain Viewer 內(nèi)應(yīng)力檢測儀具備化合物晶圓內(nèi)應(yīng)力分布測量及缺陷篩查等檢測功能

高級研究型高光譜顯微系統(tǒng)結(jié)合了高光譜技術(shù)和顯微鏡技術(shù)，能夠在不同波長范圍內(nèi)獲取高分辨率的光譜信息與生物樣品形態(tài)圖，實(shí)現(xiàn)在一張圖中同時(shí)獲取光譜和圖像信息。該系統(tǒng)還運(yùn)用AI技術(shù)實(shí)現(xiàn)虛擬染色，大幅度提高病理...

陣列式壓力傳感系統(tǒng)通過由前端柔性陣列式微機(jī)電壓力感測器及后端軟件界面組成，前端傳感器依所承受壓力呈現(xiàn)線性反應(yīng)變化，壓力越大則電導(dǎo)越高，再由后端軟件將接觸面壓力分布實(shí)時(shí)呈現(xiàn)并記錄，協(xié)助設(shè)備進(jìn)行有效調(diào)整校...

碳化硅SiC長晶設(shè)備是實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量SiC晶體生長、高純度原料合成、高溫晶體熱處理的專業(yè)設(shè)備。廣泛應(yīng)用于SiC晶體生長、原料合成、晶體熱處理領(lǐng)域。可以生長6/8英寸的晶錠。

MPCVD金剛石長晶設(shè)備Intelligent MPCVD Dimond Growth System (IMD)系列金剛石晶體生長系統(tǒng)，是實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量金剛石晶體生長、高純度晶體薄膜沉積、高溫晶體熱處理的...

Desk V沉積鍍膜機(jī)使用一個(gè)2英寸的陰極進(jìn)行濺射，由一個(gè)最大輸出為100毫安的直流電源驅(qū)動(dòng)。使用傾斜/旋轉(zhuǎn)臺(tái)來實(shí)現(xiàn)好的樣品覆蓋，特別是在粗糙的表面。Desk V還可以在沉積前用蝕刻臺(tái)和快門對樣品進(jìn)行...

全自動(dòng)步進(jìn)重復(fù)式激光干涉光刻機(jī)VIL 1000納米光刻系統(tǒng)具有全自動(dòng)光路重構(gòu)、動(dòng)態(tài)鎖相、高精度步進(jìn)重復(fù)曝光等強(qiáng)大功 能。在放置旋涂好光刻膠的 晶圓后，無需任何手動(dòng)設(shè)置或調(diào)整，我們的自動(dòng)化系統(tǒng)可以在2 ...